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方正核心專利入選首屆全國杰出專利發(fā)明展

2007-10-09 00:00 來源：方正責編：中華印刷包裝網

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由國家知識產權局、中國科學院、中國工程院、中國科協(xié)等四家單位聯(lián)合指導支持，中國專利保護協(xié)會、中國科技館承辦的“首屆全國杰出專利發(fā)明展”于9月30日在中國科技館隆重開幕，方正電子的激光照排技術、飛騰創(chuàng)藝5.0排版軟件以及方正字庫光榮入選參與展出。本次展會展出項目共124項，是國家知識產權局、中國科學院、中國工程院、中國科協(xié)四部委聯(lián)合從2005年8月和2007年5月兩次在全國范圍內開展“評審全國杰出專利工程技術及展示活動”中評選出來的。

展會開幕當天，全國人大常委會副委員長、中國科學院院長、黨組書記路甬祥、國家知識產權局副局長張勤、中國工程院副院長杜祥琬、中國科學院秘書長李志剛、中科院計劃財務局副局長張麗萍等有關國家有關部門領導親臨方正技術展位并詳細觀看了工作人員的演示，王選院士夫人陳堃銶教授也來到展位現(xiàn)場進行參觀指導。

這次展覽是我國自1985年建立專利制度以來首次以專利發(fā)明和創(chuàng)新為主題，大規(guī)模集中展示我國自主知識產權的杰出專利技術成果的活動，顯示了我國建立專利制度以來所涌現(xiàn)出的杰出的專利工程技術和成功的產業(yè)化科技項目對我國社會、經濟生活的巨大推動作用。方正電子多項技術的入選也體現(xiàn)了方正在自主知識產權方面擁有的深厚技術積累及其對國家和社會產生積極貢獻。展會在2007年9月30日——10月10日期間進行集中展示，同時將從9月30日持續(xù)到1月25日。